淺談AMC在潔凈室中的重要性

: AMC是危害生產(chǎn)(Produce)工藝并導致成品率降低（reduce)的分子態(tài)化學物質(zhì),從AMC定義、分類、來源和去除方法進行探討和分析(Analyse)。層流手術室凈化采用高效低毒消毒劑，以及合理使用，是保障一般手術室無菌環(huán)境的有力措施。根據(jù)不斷討論與反復斟酌，修訂后《綜合醫(yī)院建筑設計規(guī)范》中，關于一般手術室的條文最終確定為：“一般手術室應采用末端過濾器不低于高中效過濾器的空調(diào)系統(tǒng)或全新風通風系統(tǒng)。
關鍵（解釋:比喻事物的重要組成部分)詞: 半導體;AMC;污染物;化學過濾器(作用:過濾雜質(zhì)等) 。
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半導體(semiconductor)生產(chǎn)制程包含精密(precise)的微機電和積體電路,對于生產(chǎn)環(huán)境之潔?Q度的要求特別嚴格,因此整個制造過程都在嚴格控制的環(huán)境條件下,也就是一般熟悉的潔?Q室。
在潔凈室技術中,污染不僅包括嚴格意義上的灰塵的微粒,還包括任何有干擾作用的固體、液體、氣體、熱、電磁。所以需要小心控制污染控制的生產(chǎn)(Produce)有關的環(huán)境,這可能會有負面影響的過程和產(chǎn)品的質(zhì)量。
大多數(shù)潔凈室會避免的懸浮微粒污染,因為微粒為大顆粒,通過HEPA/ULPA過濾器(作用:過濾雜質(zhì)等)足以控制（control),但是懸浮分子污染,為小顆粒,傳統(tǒng)上,HEPA和ULPA是半導體(semiconductor)工藝中賴以控制微粒污染的技術,但隨著尺寸由0.25μm快速演進到0.13μm快甚至納米(2.5m/s)化學濾網(wǎng)。潔凈手術室裝修公司層流手術室的空氣壓力根據(jù)其不同區(qū)域（如手術間、無菌準備間、刷手間、麻醉間和周圍干凈區(qū)域等）潔凈度不同要求而不同。不同級別的層流手術室其空氣潔凈度標準不同。
2)設備進氣口之高效過濾風機(Draught Fan)組單元(FFU)上游處,設置低風速型,(VV>1.2m/s)。
3 結(jié)語
當前半導體(semiconductor)制程技術發(fā)展迅猛,芯片(又稱微電路)線寬已經(jīng)進入納米級,因此半導體潔凈室內(nèi)AMC的控制更顯重要。層流手術室凈化采用高效低毒消毒劑，以及合理使用，是保障一般手術室無菌環(huán)境的有力措施。根據(jù)不斷討論與反復斟酌，修訂后《綜合醫(yī)院建筑設計規(guī)范》中，關于一般手術室的條文最終確定為：“一般手術室應采用末端過濾器不低于高中效過濾器的空調(diào)系統(tǒng)或全新風通風系統(tǒng)。在AMC的控制中的首要步驟是通過監(jiān)測（Food Monitor)分析,識別污染的來源和通過調(diào)整材料和工藝流程以去除污染物。同時在新風、循環(huán)風以及機臺側(cè)考慮（consider)安裝合適的化學過濾器(作用:過濾雜質(zhì)等),來保護生產(chǎn)環(huán)境。第三,對于潔凈室內(nèi)某區(qū)域溫濕度異常波動,需要巧妙運用在線檢測的數(shù)據(jù)（data),去系統(tǒng)分析任何一次超出控制的異常情況,找到引起溫濕度異常波動的真實原因,從而找到有效的對策以避免問題的再次發(fā)生。最后對整個半導體代工業(yè)的潔凈室技術的現(xiàn)狀和新技術進行總結(jié)和比較,并展望本行業(yè)將來的發(fā)展趨勢（trend)。